Hafnium τετραχλωρίδιο | HFCL4 σκόνη | CAS 13499-05-3 | εργοστασιακή τιμή

Hafnium τετραχλωρίδιο | HFCL4 σκόνη | CAS 13499-05-3 | Εικόνα εργοστασιακής τιμής

Σύντομη περιγραφή:

Το τετραχλωρίδιο Hafnium έχει σημαντικές εφαρμογές ως πρόδρομος του οξειδίου του Hafnium, καταλύτη για οργανική σύνθεση, πυρηνικές εφαρμογές και εναπόθεση λεπτού φιλμ, υπογραμμίζοντας την ευελιξία και τη σημασία του σε διάφορους τεχνολογικούς τομείς.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Στείλτε μας email σε εμάς

Λεπτομέρειες προϊόντων

Ετικέτες προϊόντων

Περιγραφή προϊόντος

Σύντομη εισαγωγή

Όνομα προϊόντος: τετραχλωρίδιο Hafnium
CAS NO.: 13499-05-3
Σύνθετος τύπος: HFCL4
Μοριακό βάρος: 320.3
Εμφάνιση: Λευκή σκόνη

Προσδιορισμός

Είδος	Προσδιορισμός
Εμφάνιση	Λευκή σκόνη
HFCL4+ZRCL4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Εφαρμογή

Πρόδρομος διοξειδίου του hafnium: Το τετραχλωρίδιο Hafnium χρησιμοποιείται κυρίως ως πρόδρομος για την παραγωγή διοξειδίου του hafnium (HFO2), υλικό με εξαιρετικές διηλεκτρικές ιδιότητες. Το HFO2 χρησιμοποιείται ευρέως σε διηλεκτρικές εφαρμογές υψηλού Κ για τρανζίστορ και πυκνωτές στη βιομηχανία ημιαγωγών. Το HFCL4 είναι απαραίτητο στην κατασκευή προηγμένων ηλεκτρονικών συσκευών λόγω της ικανότητάς του να σχηματίζει λεπτές μεμβράνες διοξειδίου του hafnium.
Καταλύτης οργανικής σύνθεσης: Το τετραχλωρίδιο Hafnium μπορεί να χρησιμοποιηθεί ως καταλύτης για διάφορες αντιδράσεις οργανικής σύνθεσης, ιδιαίτερα πολυμερισμού ολεφίνης. Οι ιδιότητες του οξέος Lewis βοηθούν στη δημιουργία ενεργών ενδιάμεσων, βελτιώνοντας έτσι την αποτελεσματικότητα των χημικών αντιδράσεων. Αυτή η εφαρμογή είναι πολύτιμη στην παραγωγή πολυμερών και άλλων οργανικών ενώσεων στη χημική βιομηχανία.
Πυρηνική εφαρμογή: Λόγω της υψηλής διατομής απορρόφησης νετρονίων, το τετραχλωρίδιο Hafnium χρησιμοποιείται ευρέως σε πυρηνικές εφαρμογές, ειδικά σε ράβδους ελέγχου πυρηνικών αντιδραστήρων. Το Hafnium μπορεί να απορροφήσει αποτελεσματικά τα νετρόνια, επομένως είναι ένα κατάλληλο υλικό για τη ρύθμιση της διαδικασίας σχάσης, η οποία συμβάλλει στη βελτίωση της ασφάλειας και της αποτελεσματικότητας της παραγωγής πυρηνικής ενέργειας.
Εναπόθεση λεπτού φιλμ: Το τετραχλωρίδιο Hafnium χρησιμοποιείται σε διεργασίες εναπόθεσης χημικών ατμών (CVD) για να σχηματίσουν λεπτές μεμβράνες υλικών που βασίζονται σε hafnium. Αυτές οι ταινίες είναι απαραίτητες σε διάφορες εφαρμογές, συμπεριλαμβανομένης της μικροηλεκτρονικής, της οπτικής και των προστατευτικών επικαλύψεων. Η δυνατότητα κατάθεσης ομοιόμορφων ταινιών υψηλής ποιότητας καθιστά πολύτιμη την HFCL4 πολύτιμη στις προηγμένες διαδικασίες παραγωγής.