Τετραχλωριούχο άφνιο | Σκόνη HfCl4 | CAS 13499-05-3 | τιμή εργοστασίου

Σύντομη Περιγραφή:

Το τετραχλωριούχο άφνιο έχει σημαντικές εφαρμογές ως πρόδρομος του οξειδίου του αφνίου, καταλύτης για οργανική σύνθεση, πυρηνικές εφαρμογές και εναπόθεση λεπτών υμενίων, γεγονός που υπογραμμίζει την ευελιξία και τη σημασία του σε διάφορους τεχνολογικούς τομείς.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Στείλτε μας email

Λεπτομέρειες προϊόντος

Ετικέτες προϊόντων

Περιγραφή προϊόντος

Σύντομη εισαγωγή

Όνομα προϊόντος: Τετραχλωριούχο άφνιο
Αριθμός CAS: 13499-05-3
Σύνθετος τύπος: HfCl4
Μοριακό βάρος: 320,3
Εμφάνιση: Λευκή σκόνη

Προσδιορισμός

Είδος	Προσδιορισμός
Εμφάνιση	Λευκή σκόνη
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Εφαρμογή

Πρόδρομος διοξειδίου του αφνίουΤο τετραχλωριούχο άφνιο χρησιμοποιείται κυρίως ως πρόδρομος για την παραγωγή διοξειδίου του αφνίου (HfO2), ενός υλικού με εξαιρετικές διηλεκτρικές ιδιότητες. Το HfO2 χρησιμοποιείται ευρέως σε εφαρμογές διηλεκτρικών υψηλής πυκνότητας (high-k) για τρανζίστορ και πυκνωτές στη βιομηχανία ημιαγωγών. Το HfCl4 είναι απαραίτητο στην κατασκευή προηγμένων ηλεκτρονικών συσκευών λόγω της ικανότητάς του να σχηματίζει λεπτές μεμβράνες διοξειδίου του αφνίου.
Καταλύτης οργανικής σύνθεσηςΤο τετραχλωριούχο άφνιο μπορεί να χρησιμοποιηθεί ως καταλύτης για διάφορες αντιδράσεις οργανικής σύνθεσης, ειδικά για τον πολυμερισμό ολεφινών. Οι ιδιότητές του ως οξέος Lewis βοηθούν στο σχηματισμό ενεργών ενδιαμέσων, βελτιώνοντας έτσι την αποτελεσματικότητα των χημικών αντιδράσεων. Αυτή η εφαρμογή είναι πολύτιμη στην παραγωγή πολυμερών και άλλων οργανικών ενώσεων στη χημική βιομηχανία.
Πυρηνική ΕφαρμογήΛόγω της υψηλής διατομής απορρόφησης νετρονίων, το τετραχλωριούχο άφνιο χρησιμοποιείται ευρέως σε πυρηνικές εφαρμογές, ειδικά σε ράβδους ελέγχου πυρηνικών αντιδραστήρων. Το άφνιο μπορεί να απορροφήσει αποτελεσματικά νετρόνια, επομένως είναι ένα κατάλληλο υλικό για τη ρύθμιση της διαδικασίας σχάσης, η οποία συμβάλλει στη βελτίωση της ασφάλειας και της αποδοτικότητας της παραγωγής πυρηνικής ενέργειας.
Εναπόθεση λεπτής μεμβράνηςΤο τετραχλωριούχο άφνιο χρησιμοποιείται σε διεργασίες χημικής εναπόθεσης ατμών (CVD) για τον σχηματισμό λεπτών μεμβρανών από υλικά με βάση το άφνιο. Αυτές οι μεμβράνες είναι απαραίτητες σε μια ποικιλία εφαρμογών, όπως η μικροηλεκτρονική, η οπτική και οι προστατευτικές επιστρώσεις. Η ικανότητα εναπόθεσης ομοιόμορφων, υψηλής ποιότητας μεμβρανών καθιστά το HfCl4 πολύτιμο σε προηγμένες διαδικασίες παραγωγής.